Verfahren und System für Maskenloses Lithografisches Rasterisierungsverfahren auf Basis Globaler Optimierung
EP1856654
Art A2
21. November 2007
Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1856654
- Aktenzeichen
- EP06719611
- Anmeldetag
- 27. Januar 2006
- Veröffentlichung
- 21. November 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G06K9/00G02F1/135G02F1/1335G21K5/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Holding N.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München