Verfahren und System zur Reinigung eines Substrats und Programmspeichermedium

EP1858059 Art B1 3. Dezember 2008

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1858059
Aktenzeichen: EP07009836
Anmeldetag: 16. Mai 2007
Veröffentlichung: 3. Dezember 2008
Erteilung: 3. Dezember 2008
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/00B08B3/12B08B3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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