Plasmabehandlungsvorrichtung und Halbleiter-Dünnfilm-Herstellungsverfahren damit
EP1858061
Art B1
19. Oktober 2011
Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1858061
- Aktenzeichen
- EP06714438
- Anmeldetag
- 23. Februar 2006
- Veröffentlichung
- 19. Oktober 2011
- Erteilung
- 19. Oktober 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/205H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sharp Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sharp
Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Müller, Frithjof E
München, Deutschland
491
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27
Fachgebiete
6
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Müller Hoffmann & Partner
Müller Hoffmann & Partner · München