Verfahren zur Bildung eines Metallmusters, Dadurch Erhaltenes Metallmuster, Dieses Verwendende Gedruckte Leiterplatte und Dieses Verwendende Tft-Leiterplatte
EP1862042
Art B1
10. April 2013
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1862042
- Aktenzeichen
- EP06713726
- Anmeldetag
- 8. Februar 2006
- Veröffentlichung
- 10. April 2013
- Erteilung
- 10. April 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05K3/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München