Positiv-Fotoresistzusammensetzung, Dickfilm-Fotoresistlaminat, Verfahren zur Erzeugung einer Dickfilm-Resiststruktur und Verfahren zur Erzeugung eines Verbindungsanschlusses
EP1864186
Art A2
12. Dezember 2007
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1864186
- Aktenzeichen
- EP06730969
- Anmeldetag
- 28. März 2006
- Veröffentlichung
- 12. Dezember 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/039H01L21/60
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
927 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hart-Davis, Jason
Paris, Frankreich
1.276
Patente gesamt
31
Fachgebiete
23
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Portal, Gérard
NoneParis