Gekühltes Spiegelarray für die Lithographie
EP1865359
Art A1
12. Dezember 2007
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1865359
- Aktenzeichen
- EP07252194
- Anmeldetag
- 29. Mai 2007
- Veröffentlichung
- 12. Dezember 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B26/08G02B26/02G02B7/18G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Roberts, Peter David
NoneManchester