Projektionsbelichtungssystem, Verfahren zur Herstellung eines Mikrostrukturierten Strukturellen Elements Mithilfe eines Derartigen Projektionsbelichtungssystems und für die Verwendung in einem Derartigen System Angepasstes Optisches Polarisationselement
EP1872176
Art A2
2. Januar 2008
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1872176
- Aktenzeichen
- EP06753384
- Anmeldetag
- 12. April 2006
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Kanzlei
Boehmert & Boehmert
München, Deutschland
Boehmert & Boehmert geht auf die Zulassung von Dr. Karl Boehmert 1931 in Berlin zurück. Mit Standorten in Deutschland, Alicante, Paris und Shanghai bietet die Kanzlei IP aus einer Hand und legt besonderen Wert auf persönliche Mandantenbetreuung statt Anonymität.
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