Vorrichtung und Verfahren zum Polieren von Halbleiterwaferrändern

EP1872393 Art B1 27. Mai 2015

Anmelder: Nihon Microcoating Co., Ltd., EBARA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1872393
Aktenzeichen
EP06732250
Anmeldetag
18. April 2006
Veröffentlichung
27. Mai 2015
Erteilung
27. Mai 2015
Rechtsraum
EP
IPC
B24B21/16B24B9/06
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Nihon Microcoating Co., Ltd.
EBARA CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Ebara

Japanischer Hersteller von Pumpen, Kompressoren und Umwelttechnik mit Sitz in Tokio, gegründet 1912.

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