Zusammensetzung zur Resistunterschichtfilmbildung zur Bildung eines Photovernetzungs-Ausgehärteten Resistunterschichtfilms

EP1879070 Art A1 16. Januar 2008

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd., Hidaka, Motohiko 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1879070
Aktenzeichen: EP06731612
Anmeldetag: 11. April 2006
Veröffentlichung: 16. Januar 2008
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11H01L21/027G03F7/09

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Hidaka, Motohiko
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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