Plasmabearbeitungsvorrichtung
EP1879213
Art B1
14. März 2012
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Ohmi, Tadahiro 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1879213
- Aktenzeichen
- EP07019845
- Anmeldetag
- 25. Mai 2000
- Veröffentlichung
- 14. März 2012
- Erteilung
- 14. März 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
Ohmi, Tadahiro - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.253 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Tönhardt, Marion
München, Deutschland
417
Patente gesamt
34
Fachgebiete
16
Anmelder-Länder
Schwerpunkte