Verfahren zum Ätzen eines Oxids, zur Reduzierung von Rauheit und zur Formung von Kondensator-Konstruktionen
EP1880411
Art A1
23. Januar 2008
Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1880411
- Aktenzeichen
- EP06758872
- Anmeldetag
- 28. April 2006
- Veröffentlichung
- 23. Januar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311C11D11/00H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Micron Technology, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Micron Technology
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.
3.194 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Beresford, Keith Denis Lewis
London, Großbritannien
4.132
Patente gesamt
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Fachgebiete
38
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Schwerpunkte