Verfahren zum Ablösen von Fotolack in Gegenwart von Normalen Und/oder Porösen Dielektrischen Materialien mit Niedrigem K-Wert
EP1880414
Art B1
19. Dezember 2012
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1880414
- Aktenzeichen
- EP06752442
- Anmeldetag
- 8. Mai 2006
- Veröffentlichung
- 19. Dezember 2012
- Erteilung
- 19. Dezember 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02H01L21/311G03F7/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
2.725 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kontrus, Gerhard
Villach, Österreich
229
Patente gesamt
16
Fachgebiete
3
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Derry, Paul Stefan
Venner Shipley LLP · London