Modifizierte Siliciumdioxidteilchen, Diese Enthaltende Lichtempfindliche Zusammensetzung und Lichtempfindliche Lithographieplatte
EP1880978
Art A1
23. Januar 2008
Anmelder: Eastman Kodak Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1880978
- Aktenzeichen
- EP06746357
- Anmeldetag
- 8. Mai 2006
- Veröffentlichung
- 23. Januar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C01B33/18C07F7/10C09C1/28C09C3/10C09C3/12C09K3/00G03F7/00G03F7/027G03F7/075G03F7/085C09C1/30B41C1/10C07F7/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Eastman Kodak Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Eastman Kodak
US-amerikanisches Unternehmen mit Sitz in Rochester (New York), traditionell führend in Fotografie- und Bildgebungstechnik. Aktiv in Drucktechnologien, Filmmaterialien sowie chemischer und optischer Bildverarbeitung.
5.597 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Haile, Helen Cynthia
Harrow, Großbritannien
1.759
Patente gesamt
26
Fachgebiete
7
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
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