Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren unter Verwendung von interferometrischen und maskenlosen Belichtungseinheiten
EP1881372
Art A3
27. Februar 2008
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1881372
- Aktenzeichen
- EP07020124
- Anmeldetag
- 6. Dezember 2006
- Veröffentlichung
- 27. Februar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon