Ätzverfahren, Verfahren zur Herstellung eines Dielektrischen Films mit Niedriger Dielektrizitätskonstante, Verfahren zur Herstellung eines Porösen Gliedes, Ätzsystem und Dünnfilm-Bildungsgeräte
EP1881525
Art A1
23. Januar 2008
Anmelder: Canon Anelva Corporation, PhyzChemix Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1881525
- Aktenzeichen
- EP06745893
- Anmeldetag
- 28. April 2006
- Veröffentlichung
- 23. Januar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3065H01L21/205
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Canon Anelva Corporation
PhyzChemix Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Canon Anelva
Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.
421 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Brown, Kenneth Richard
London, Großbritannien
983
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Fachgebiete
15
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Schwerpunkte
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-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München