System und Verfahren zum Ausgleich kritischer Dimensionsungleichförmigkeit in einem Lithographiesystem
EP1882987
Art A3
15. Juli 2009
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1882987
- Aktenzeichen
- EP07252820
- Anmeldetag
- 16. Juli 2007
- Veröffentlichung
- 15. Juli 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
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Leeming, John Gerard
London, Großbritannien
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