Verfahren und Vorrichtung zum Mischen chemischer Flüssigkeiten zum Reinigen von Substraten wie beispielsweise Halbleiterwaferplatten

EP1884280 Art B1 12. Oktober 2011

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1884280
Aktenzeichen: EP07015193
Anmeldetag: 2. August 2007
Veröffentlichung: 12. Oktober 2011
Erteilung: 12. Oktober 2011
Rechtsraum: EP
IPC: B01F5/10B01F3/08B08B3/08B08B3/10H01L21/00H01L21/306C01B15/08C11D7/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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