Mikrolithographie-Projektionsobjektiv
EP1886190
Art B1
3. Oktober 2012
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1886190
- Aktenzeichen
- EP06753801
- Anmeldetag
- 23. Mai 2006
- Veröffentlichung
- 3. Oktober 2012
- Erteilung
- 3. Oktober 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Heuckeroth, Volker
Stuttgart, Deutschland
172
Patente gesamt
22
Fachgebiete
5
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Schwerpunkte