Dispersion mit Hohlem SiO2, Beschichtungszusammensetzung sowie Substrat mit Antireflektionsüberzug
EP1887059
Art B1
8. Januar 2014
Anmelder: Asahi Glass Company, Limited, ASAHI GLASS COMPANY, LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1887059
- Aktenzeichen
- EP06729565
- Anmeldetag
- 20. März 2006
- Veröffentlichung
- 8. Januar 2014
- Erteilung
- 8. Januar 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09D17/00B05D5/06B05D7/24B32B7/02B32B27/20C01B33/18C09D5/00C09D7/12C09D201/00G02B1/11
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Asahi Glass Company, Limited
ASAHI GLASS COMPANY, LTD. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
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