Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür
EP1887100
Art B1
11. Mai 2011
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation, Nippon Mining & Metals Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1887100
- Aktenzeichen
- EP06729368
- Anmeldetag
- 17. März 2006
- Veröffentlichung
- 11. Mai 2011
- Erteilung
- 11. Mai 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C04B35/453G11B7/254G11B7/257G11B7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
Nippon Mining & Metals Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
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Fachgebiete
27
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Schwerpunkte