Halbleiterbauelement und Verfahren zu Seiner Herstellung

EP1887631 Art A1 13. Februar 2008

Anmelder: ROHM CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1887631
Aktenzeichen
EP06731512
Anmeldetag
10. April 2006
Veröffentlichung
13. Februar 2008
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/78H01L29/423H01L29/06H01L21/336// H01L29/10H01L29/45H01L29/49
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ROHM CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Rohm

Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).

2.771 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen