Plasmaerzeugungsvorrichtung und Plasmaerzeugungsverfahren

EP1887841 Art A1 13. Februar 2008

Anmelder: TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1887841
Aktenzeichen: EP06745848
Anmeldetag: 28. April 2006
Veröffentlichung: 13. Februar 2008
Rechtsraum: EP
IPC: H05H1/24G03F7/20H01L21/027H05G2/00H05H1/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Institute of Technology

Japanische technische Universität in Tokio mit Schwerpunkt auf Natur- und Ingenieurwissenschaften. Seit 2024 firmiert sie im Zuge einer Fusion als Institute of Science Tokyo.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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