Systeme und Verfahren zum Implementieren und Wechselwirken zwischen einem als Linienstrahl Geformten Laser und einem auf einem Substrat Abgelagerten Film
Anmelder: Cymer, Inc., Carl Zeiss Industrielle Messtechnik GmbH 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1889000
- Aktenzeichen
- EP06771153
- Anmeldetag
- 25. Mai 2006
- Veröffentlichung
- 20. Februar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01B11/14G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Cymer, Inc.
Carl Zeiss Industrielle Messtechnik GmbH - Land
- 🇺🇸 USA
Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.
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Deutsches Unternehmen der Zeiss-Gruppe, spezialisiert auf industrielle Messtechnik, darunter Koordinatenmessgeräte und Sensoren zur präzisen Vermessung von Bauteilen in Fertigung und Qualitätssicherung.
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