Lithographische Vorrichtung und Reinigungsverfahren dafür
EP1891480
Art A2
27. Februar 2008
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1891480
- Aktenzeichen
- EP06747569
- Anmeldetag
- 13. Juni 2006
- Veröffentlichung
- 27. Februar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Hatzmann, Martin
NoneDen Haag