Verfahren zur Reinigung von Photomasken
EP1892570
Art B1
17. Februar 2010
Anmelder: Dai Nippon Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1892570
- Aktenzeichen
- EP07016113
- Anmeldetag
- 16. August 2007
- Veröffentlichung
- 17. Februar 2010
- Erteilung
- 17. Februar 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/00B08B7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Dai Nippon Printing Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Dai Nippon Printing
Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.
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