Verfahren zur Herstellung von CMOS Transistoren mit unterschiedlichen Gattermaterialien
EP1892759
Art A2
27. Februar 2008
Anmelder: Panasonic Corporation, IMEC, IMEC vzw, Interuniversitair Microelectronica Centrum vzw, MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1892759
- Aktenzeichen
- EP07109719
- Anmeldetag
- 6. Juni 2007
- Veröffentlichung
- 27. Februar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/8238
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Panasonic Corporation
IMEC
IMEC vzw, Interuniversitair Microelectronica Centrum vzw
MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Panasonic
Japanischer Konzern, der Haushaltsgeräte, Unterhaltungselektronik, Batterien sowie Komponenten und Lösungen für Industrie und Automobilbau entwickelt und herstellt.
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🇧🇪
imec
Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.
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