Verfahren und System zur Kontaminationsmessung bei einem lithografischen Element
EP1895365
Art B1
13. Mai 2009
Anmelder: IMEC, INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM ( IMEC) 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1895365
- Aktenzeichen
- EP07000209
- Anmeldetag
- 5. Januar 2007
- Veröffentlichung
- 13. Mai 2009
- Erteilung
- 13. Mai 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IMEC
INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM ( IMEC) - Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
imec
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Bird, William Edward
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