Transistor mit Verbessertem Spitzenprofil und Herstellungsverfahren dafür
EP1897130
Art B1
7. April 2010
Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1897130
- Aktenzeichen
- EP06786211
- Anmeldetag
- 29. Juni 2006
- Veröffentlichung
- 7. April 2010
- Erteilung
- 7. April 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/336H01L21/306H01L29/04H01L21/8234H01L21/8238
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Intel Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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Want, Clifford James
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