Galliumoxid-Zinkoxid-Sputtertarget und Verfahren zur Herstellung eines Transparenten Leitfähigen Films unter Verwendung des Targets
EP1897969
Art B1
23. Januar 2019
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation, Nippon Mining & Metals Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1897969
- Aktenzeichen
- EP06757010
- Anmeldetag
- 6. Juni 2006
- Veröffentlichung
- 23. Januar 2019
- Erteilung
- 23. Januar 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/08C23C14/34C04B35/453C04B35/626
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
Nippon Mining & Metals Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
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27
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