Substratverarbeitungsverfahren, Substratverarbeitungsvorrichtung, und Programmspeichermedium

EP1898446 Art A3 11. Januar 2012

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1898446
Aktenzeichen: EP07017587
Anmeldetag: 7. September 2007
Veröffentlichung: 11. Januar 2012
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/00H01L21/67B01B1/00B01F3/02B01J3/02B01J4/00C23C16/30C23C16/448C23C16/52C30B25/14C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von