Substratverarbeitungsverfahren und Substratverarbeitungsvorrichtung

EP1898453 Art A1 12. März 2008

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1898453
Aktenzeichen: EP06730482
Anmeldetag: 29. März 2006
Veröffentlichung: 12. März 2008
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/304B08B3/02G02F1/13G02F1/1333H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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