Systeme und Verfahren zum Ablenken von Plasmaerzeugten Ionen, um zu Verhindern, Dass die Ionen eine Innere Komponente einer Euv-Lichtquelle Erreichen

EP1899115 Art A2 19. März 2008

Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Netherlands BV, Cymer, LLC, Cymer, Inc. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1899115
Aktenzeichen: EP06760378
Anmeldetag: 25. Mai 2006
Veröffentlichung: 19. März 2008
Rechtsraum: EP
IPC: G21K1/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
ASML Netherlands BV
Cymer, LLC
Cymer, Inc.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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