Halbleiterdefekt-Analyseeinrichtung, Defektanalyseverfahren und Defektanalyseprogramm
EP1901079
Art A1
19. März 2008
Anmelder: HAMAMATSU PHOTONICS K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1901079
- Aktenzeichen
- EP06766970
- Anmeldetag
- 20. Juni 2006
- Veröffentlichung
- 19. März 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01R31/302H01L21/66G01N21/956G06T7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hamamatsu Photonics
Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.
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