Photomaske mit selbstmaskierender Schicht und Ätzverfahren hierfür

EP1901119 Art A3 6. Juni 2012

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1901119
Aktenzeichen: EP07017020
Anmeldetag: 30. August 2007
Veröffentlichung: 6. Juni 2012
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/80

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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