Verfahren zur Entfernung von Fotolackschichten von einem Substrat
EP1903400
Art A1
26. März 2008
Anmelder: IMEC, Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1903400
- Aktenzeichen
- EP06447108
- Anmeldetag
- 20. September 2006
- Veröffentlichung
- 26. März 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IMEC
Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum - Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
imec
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