Systeme und Verfahren für Euv-Lichtquellenmetrologie

EP1904818 Art A2 2. April 2008

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1904818
Aktenzeichen: EP06786101
Anmeldetag: 29. Juni 2006
Veröffentlichung: 2. April 2008
Rechtsraum: EP
IPC: G01J1/42G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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