Abziehschicht zur Verwendung in einer Mikrolithographischen Belichtungsvorrichtung
EP1904894
Art A1
2. April 2008
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1904894
- Aktenzeichen
- EP06762070
- Anmeldetag
- 19. Juni 2006
- Veröffentlichung
- 2. April 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Vertreten von
Schwanhäusser, Gernot
Stuttgart, Deutschland
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