Technik zur Verringerung von Silizid-Ungleichförmigkeiten durch Anpassen eines Avertikalen Dotierungsstoffprofils
EP1905068
Art A2
2. April 2008
Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1905068
- Aktenzeichen
- EP06770831
- Anmeldetag
- 23. Mai 2006
- Veröffentlichung
- 2. April 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/336H01L29/78
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
2.407 Patente in unserer Datenbank