Verringerung von Wasserflecken bedingten Fehlern in immersions-lithographischen Verfahren durch Optimierung des Resist-Materials
EP1906256
Art A1
2. April 2008
Anmelder: Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum, Intel Corporation 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1906256
- Aktenzeichen
- EP06020706
- Anmeldetag
- 2. Oktober 2006
- Veröffentlichung
- 2. April 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum
Intel Corporation - Land
- 🇧🇪 Belgien
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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