Plasmaentladungsanlage zur Schichterzeugung und entsprechendes Schichterzeugungsverfahren
EP1906433
Art A1
2. April 2008
Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1906433
- Aktenzeichen
- EP07019053
- Anmeldetag
- 27. September 2007
- Veröffentlichung
- 2. April 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32C23C14/00C23C14/08C23C14/34H01J37/34H01L41/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujifilm Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Vertreten von
Klunker, Hans-Friedrich
München, Deutschland
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13
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