Lpp-Euv-Lichtquellen-Ansteuerungslasersystem
EP1907804
Art B1
30. Mai 2012
Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1907804
- Aktenzeichen
- EP06774094
- Anmeldetag
- 27. Juni 2006
- Veröffentlichung
- 30. Mai 2012
- Erteilung
- 30. Mai 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Cymer, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Cymer
Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.
399 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Pfau, Anton Konrad
München, Deutschland
154
Patente gesamt
29
Fachgebiete
13
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
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Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB
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