Abbildungssystem, insbesondere Projektionsobjektiv einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
EP1913445
Art B1
25. Mai 2011
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1913445
- Aktenzeichen
- EP06778169
- Anmeldetag
- 4. August 2006
- Veröffentlichung
- 25. Mai 2011
- Erteilung
- 25. Mai 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Vertreten von
Frank, Hartmut
Mülheim a. d. Ruhr, Deutschland
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