Beschichtungszusammensetzung
EP1918339
Art B1
14. August 2013
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1918339
- Aktenzeichen
- EP07021478
- Anmeldetag
- 5. November 2007
- Veröffentlichung
- 14. August 2013
- Erteilung
- 14. August 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09D183/04C08K5/02C09D201/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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