Verfahren zur Bildung eines Films aus amorphes Silizium mit gradiertem Bandabstand durch Elektronzyklotronresonanz
Anmelder: Dow Corning Corporation, Ecole Polytechnique 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1918414
- Aktenzeichen
- EP06301119
- Anmeldetag
- 2. November 2006
- Veröffentlichung
- 7. Mai 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/455C23C16/24C23C16/511H01J37/32H01L31/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Dow Corning Corporation
Ecole Polytechnique - Land
- 🇺🇸 USA
US-amerikanischer Hersteller von Silikonen und siliziumbasierten Materialien mit Sitz in Michigan, gegründet 1943 als Joint Venture von Dow Chemical und Corning. Das Unternehmen firmiert heute als Dow Silicones Corporation.
3.002 Patente in unserer Datenbank
Die Ecole Polytechnique ist eine französische Ingenieurhochschule bei Paris mit starker naturwissenschaftlicher Forschung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt um Elektronik, Metallurgie und Optik. Anmeldungen laufen durchgehend von 2000 bis in die Gegenwart, unter anderem zu Photovoltaik.
350 Patente in unserer Datenbank
-
Portch, Daniel
NoneSevenoaks
-
Boon, Graham Anthony
NoneSevenoaks