Verfahren zur Herstellung einer Schicht mit gradiertem Bandabstand durch Abscheidung eines amorphen Stoffes aus einem Plasma
EP1918966
Art A1
7. Mai 2008
Anmelder: Dow Corning Corporation, Ecole Polytechnique 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1918966
- Aktenzeichen
- EP06301117
- Anmeldetag
- 2. November 2006
- Veröffentlichung
- 7. Mai 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Dow Corning Corporation
Ecole Polytechnique - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Dow Corning
US-amerikanischer Hersteller von Silikonen und siliziumbasierten Materialien mit Sitz in Michigan, gegründet 1943 als Joint Venture von Dow Chemical und Corning. Das Unternehmen firmiert heute als Dow Silicones Corporation.
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Boon, Graham Anthony
Sevenoaks, Großbritannien
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