Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung darfür

EP1918995 Art B1 18. September 2013

Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd., SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1918995
Aktenzeichen
EP07021194
Anmeldetag
30. Oktober 2007
Veröffentlichung
18. September 2013
Erteilung
18. September 2013
Rechtsraum
EP
IPC
H01L27/144H01L31/02H01L31/0224H01L31/105H01L31/0216H01L27/32H01M10/46H03F3/08H02J7/02H01L31/18H01L31/0232
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd.
SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Semiconductor Energy Laboratory

Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.

4.187 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen