Verfahren und Vorrichtung für Luftsysteme
EP1919774
Art B1
9. Mai 2018
Anmelder: Raytheon Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1919774
- Aktenzeichen
- EP06851122
- Anmeldetag
- 7. August 2006
- Veröffentlichung
- 9. Mai 2018
- Erteilung
- 9. Mai 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B64C27/02B64D1/02B64D19/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Raytheon Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Raytheon Company
US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.
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Jackson, Richard Eric
London, Großbritannien
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