Verfahren zur Herstellung von Titannitrid-Filmen mit Geringem Widerstand

EP1920456 Art B1 22. August 2012

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1920456
Aktenzeichen
EP06787866
Anmeldetag
19. Juli 2006
Veröffentlichung
22. August 2012
Erteilung
22. August 2012
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/285C23C16/34// H01L21/28H01L21/768
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Micron Technology, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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