Niedertemperatur-Atomlagenabscheidung von SiO2
EP1925691
Art A1
28. Mai 2008
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1925691
- Aktenzeichen
- EP07021810
- Anmeldetag
- 9. November 2007
- Veröffentlichung
- 28. Mai 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/40C23C16/455
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Fachgebiete
Vertreten von
Zimmermann, Gerd Heinrich
München, Deutschland
751
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31
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7
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