Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Resiststrukturformung damit
EP1925980
Art B1
5. Mai 2010
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1925980
- Aktenzeichen
- EP08100834
- Anmeldetag
- 29. November 2002
- Veröffentlichung
- 5. Mai 2010
- Erteilung
- 5. Mai 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Vertreten von
Augarde, Eric
Toulouse, Frankreich
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